京东方Ａ得回发明专利授权：“平板探伤基板过甚制备表情、平坦探伤器”

证券之星音信，凭据天眼查APP数据披露京东方Ａ（000725）新得回一项发明专利授权，专利名为“平板探伤基板过甚制备表情、平坦探伤器”，专利苦求号为CN201910129999.2，授权日为2024年11月19日。

专利摘录：本发明为平板探伤基板过甚制备表情、平坦探伤器，提供一种平板探伤基板过甚制备表情、平板探伤器，属于探伤器本事限制。本发明的平板探伤基板，包括：基底，位于所述基底上的多个检测单位；每个所述检测单位包括：偏压电极和感应电极；所述平板探伤基板还包括：遮掩在所述偏压电极和所述感应电极之上的半导体层；且所述半导体层的厚度大于100nm。

本年以来京东方Ａ新得回专利授权2901个，较客岁同时增多了0.62%。聚积公司2024年中报财务数据，本年上半年公司在研发方面插足了58.06亿元，同比增10.24%。

数据起首：天眼查APP

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